安捷倫 Agilent 7500 ICP-MS電感耦合等離子體質(zhì)譜是一種新型的無(wú)機元素和同位素分析技術(shù)，可快速同時(shí)檢測周期表上幾乎所有元素。ICP-MS技術(shù)在分析能力上，超過(guò)傳統的無(wú)機分析技術(shù)如電感耦合等離子體光譜技術(shù)(ICPAES)、石墨爐原子吸收(GFAAS)和汞冷原子吸收技術(shù)(CVAAS)的總和，被稱(chēng)為當代分析技術(shù)最激動(dòng)人心的發(fā)展。

Agilent 7500 ICP-MS技術(shù)的應用領(lǐng)域包括：

環(huán)境樣品分析，包括自來(lái)水、地表水、地下水、海水以及各種土壤、廢棄物等的分析

半導體材料分析

玻璃、陶瓷和礦冶等樣品分析

地質(zhì)學(xué)研究

生物食品及醫藥臨床研究

核材料分析

石油化工樣品分析

法醫應用與研究

最近，與分離技術(shù)聯(lián)用進(jìn)行環(huán)境毒理、生命科學(xué)等領(lǐng)域的元素價(jià)態(tài)、形態(tài)分析成為ICP-MS技術(shù)應用的一個(gè)焦點(diǎn)。

安捷倫Agilent 7500 ICP-MS分析特性：

可快速同時(shí)檢測周期表上幾乎所有元素

zui低的檢出限（低至ppq級）

分析效益/成本比最佳

最寬的線(xiàn)性動(dòng)態(tài)范圍—可直接檢測從ppq到數百ppm濃度

譜線(xiàn)zui簡(jiǎn)單、干擾最小，準確度和精密度好

需要樣品量很低(ul至ml)，分析速度很快（1～3分鐘/樣品）

檢測模式靈活多樣

半導體工業(yè)常用材料中超痕量污染物分析

固體：Si；GaAa單晶切片；石英、碳化硅等爐材料；高純金屬電極等

液體：超純水；HF；HNO3；HCI；H2SO4；H2O2；氨水等

氣體：SiH4；TE0S；NF3；N2等

Agilent ICP-MS可直接分析有機樣品。

Agilent ICP-MS的高效能、高功率屏蔽矩冷等離子體技術(shù)已被用于測定一系列有機樣品的ppt級痕量污染元素。

對其中一些樣品，其他方法無(wú)法得到滿(mǎn)意的結果，高功率屏蔽矩冷等離子體技術(shù)是wei一的分析方法。

強堿性清洗劑——四甲基氫氧化氨(TMAH)等

常用有機溶劑——甲苯、二甲苯、IPA等

高基體樣品——光刻膠、液晶、BPSG、PSG等揮發(fā)性ji強的清洗劑——丙酮、甲醇等

安捷倫IPC-MS7500CE